ITO納米高速分散機  ,ITO納米分散機,氧化銦納米分散機 氧化錫納米分散機是的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS3000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設(shè)備。


ITO粉末為氧化銦和氧化錫的混合物，是一種新型的特殊功能陶瓷材料，通常是用電子束蒸發(fā)、物理氣相沉積、或者一些濺射沉積技術(shù)的方法沉積到表面，具有對可見光透明和導(dǎo)電的良好特性。
在分散或研磨納米粉體的漿料時，若不添加適當?shù)谋砻娓馁|(zhì)劑，單靠研磨機的機械力量來做分散研磨，一般只能分散研磨到300 ~ 800 nm就無法再降低粒徑了，其原因是當粒徑小于300 nm時，粉體的比表面積急速上升且范德華力效應(yīng)加劇，此時粉體處于非常不穩(wěn)定且容易再凝聚的狀態(tài)，即使聚集的粉體被磨球打開來了，也容易再凝聚，除非添加適當?shù)谋砻娓馁|(zhì)劑，才可能繼續(xù)把粒徑下降到一次粒徑的大小。
◆化學(xué)界面改質(zhì)劑的設(shè)計
一般處理漿料表面的方法，由復(fù)雜交互的作用力，如靜電排斥力、立體排斥力及體積排除作用力等力形成固體或液體表面的穩(wěn)定狀態(tài)，其目的不外乎是避免粉體再凝聚的產(chǎn)生，其中*簡單的方法是調(diào)整PH值，使納米粉體表面帶電荷，粉體與粉體間產(chǎn)生排斥力，然而，納米粉體因受限于*終產(chǎn)品應(yīng)用及配方的限制，適用此方法的應(yīng)用并不多；第二種常用的方法是依靠立體排斥作用力形成固體與固體，固體與液體間的穩(wěn)定狀態(tài)，此方法*常選用高分子量的高分子或單體作分散劑，當漿料的粒徑要求為微米或亞納米時，此方法效果相當好；但是分散或研磨漿料的粒徑要求小于100 nm時，如果仍選用高分子量的高分子或單體作為分散劑，當粉體被納米化時，漿料內(nèi)的大部分體積已被高分子量的高分子或單體所形成的障礙物所占據(jù)，此時漿料容易遇到下列的問題：
● 固成分大幅降低，一般為35 % wt以下。
● 漿料的粘度因而提高，不利于研磨機內(nèi)小磨球的運動，導(dǎo)致*后的粒徑細度降不下來。
● 粉體容易產(chǎn)生再凝聚的現(xiàn)象，導(dǎo)致納米現(xiàn)象無法產(chǎn)生，為了避免上述問題的產(chǎn)生，本文所介紹的化學(xué)機械工藝法，將選用較低分子量的功能劑來當表面改質(zhì)劑。根據(jù)溶液化學(xué)的概念，較小分子量的化學(xué)鍵所形成的功能劑，會比較容易被接到納米粉體的表面上，（如圖4范例所示），所選用的界面改質(zhì)劑是低分子量的，且包含有機酸官能團。
 
原則上，所選用的界面改質(zhì)劑同時具有兩個官能團：一個官能團被設(shè)計接到納米粉體表面，使納米粉體表面產(chǎn)生一個穩(wěn)定相，以避免粉體再凝聚的產(chǎn)生；另一個官能團的設(shè)計，要根據(jù)納米粉體所添加的界面（Matrix）而定，以避免不兼容現(xiàn)象的發(fā)生。因為界面改質(zhì)工藝所采用的工具為濕法分散納米研磨設(shè)備，所以選用的界面改質(zhì)劑必須能夠與使用的溶劑兼容。盡管所選用的界面改質(zhì)劑的分子量很小，但仍可在納米粒子表面產(chǎn)生2 ~ 5 nm厚度的薄膜，足夠產(chǎn)生一個立體障礙并支撐納米粒子的穩(wěn)定性，相信根據(jù)這些原理量身打造的界面改質(zhì)劑，可以滿足下列要求：
● 固體成分可以大大提高到35 ~ 45%以上。
● 粒徑可以降到粉體一次粒徑大�。ɡ�如10 nm左右）。
● 漿料的粘滯性不再受粒子粒徑下降的影響而急速上升。
● 粉體將不易產(chǎn)生再凝聚現(xiàn)象，即使添加到后段工藝仍為納米粒子。

ITO納米高速分散機  ,ITO納米分散機,氧化銦納米分散機 氧化錫納米分散機

KN管線式高剪切乳化機（分散機、均質(zhì)機）與臥式乳化機比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國內(nèi)乳化機，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切乳化機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是乳化和均質(zhì)的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計構(gòu)造：
國內(nèi)乳化機，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN高剪切乳化機，立式分體結(jié)構(gòu)，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內(nèi)乳化機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN高剪切乳化機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國內(nèi)乳化機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切乳化機，可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化
 
 
當用我們的設(shè)備好處是什么？效果好（研磨效果、均質(zhì)效果、分散效果、乳化效果……），速度快，效率高。每一臺設(shè)備都具有多功能改裝，根據(jù)不同的要求更換不同的模塊。還有什么？？？那就是能耗低，據(jù)用過依肯的設(shè)備客戶反應(yīng)，就電費就能省下不少。如何去選擇一臺合適的設(shè)備，一定會做一個明智的選擇！

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