化學(xué)氧化－還原法，目前以該法制備

    氧化石墨主要有3種途徑，即Brodie法、Staudenmaier法及Hummers法。前兩者會產(chǎn)生ClO2氣體，Hummers氧化還原法反應(yīng)時間短，產(chǎn)品純化步驟簡單，因此目前的制備方法多基于Hummers氧化還原法。
Hummers氧化還原法制備過程概括為:
①向強酸和強氧化劑混合液加入石墨，反應(yīng)得到氧化石墨;
②借助外力剝離得到氧化石墨烯(GO);
③通過化學(xué)還原、熱還原等方法將氧化石墨烯還原得到還原的氧化石墨烯(rGO)。

    上述3種制備方法中，使用CVD法制得的大面積石墨烯片層可以直接覆蓋在金屬表面用作防腐、保護涂層，而化學(xué)氧化－還原法則在涂料領(lǐng)域中更為常用。這是由于在氧化的過程中，將活性含氧基團引入到石墨烯上，為以后的功能化改性提供了活性反應(yīng)位點，豐富了功能化改性的手段，從而有效提高改性GO與溶劑、聚合物的相容性。

石墨烯漿料的制備方法
（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯，用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制，而且處理量比較小，不適合規(guī)模生產(chǎn)
（2）砂磨機：能夠均勻的細(xì)化石墨烯的粒徑，但是工作時間長，而且容易破壞石墨烯的原子機構(gòu)，耗材更換成本高，
（3）采用研磨分散機“先把抱團粒徑打開，還原物料的原始粒徑，再把物料進步細(xì)化剝離”可以高效的得到理想的石墨烯漿料

石墨烯研磨分散機是研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

石墨烯漿料分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、石墨烯 水分散劑概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
石墨烯 分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

ikn石墨烯研磨分散機是由研磨機 和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 
    級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國先進的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（***高可達(dá)14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
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