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    實驗室膠體磨,實驗室膠體磨價格

    產(chǎn)品型號: CM2000/4
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息
    實驗室膠體磨,實驗室膠體磨價格,實驗室膠體磨廠家,實驗室高速膠體磨,德國實驗室膠體磨,超細粉碎實驗室膠體磨是比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上,研磨效果非常好,***高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。
     

    實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

         實驗室中試型膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,實驗室中試型膠體磨用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

          CM2000/4實驗室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

         公司另外一項獨特的創(chuàng)新,就是錐體磨CMO2000系列,它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新,CMO2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。 
        研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和***后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和***后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
     


     

     

    它們的主要區(qū)別

      CM2000/4(LP系列)為實驗室膠體磨的技術(shù)參數(shù):功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 /小時(水),重量35KG,尺寸 (長寬高)(450X250X350)MM,LP使用軸封(PTFE 環(huán)),在正常的情況下,一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續(xù)使用,一般***多可以使用連續(xù)半個小時,這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過變換模塊,可以實現(xiàn)多功能多用途。是中試生產(chǎn)的***佳選擇。

       CM2000/4(LP系列)為220v實驗室膠體磨的技術(shù)參數(shù):功率1.5 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓220V,機器產(chǎn)量為 0– 300 /小時(水),重量35KG,尺寸 (長寬高)(450X250X350)MM,LP使用軸封(PTFE 環(huán)),在正常的情況下,一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續(xù)使用,一般***多可以使用連續(xù)半個小時,這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過變換模塊,可以實現(xiàn)多功能多用途。不需要冷卻水 (此款設(shè)備為特制型產(chǎn)品,適合一些只有220V明用電的環(huán)境使用)  因為工業(yè)型批次的膠體磨他們的速度和設(shè)計結(jié)構(gòu)決定沒有那么高的剪切力。而相對而言,管線式就沒有那么多的問題,他們可以保持相同的線速度和剪切力。此款設(shè)備是科研機構(gòu)、大專院校、衛(wèi)生*和產(chǎn)品制造等進行科學(xué)研究、產(chǎn)品開發(fā)、品質(zhì)控制及生產(chǎn)過程應(yīng)用的理想乳化機實驗設(shè)備。

       CM2000/4(PP系列)為中試型膠體磨的技術(shù)參數(shù):功率2.2-4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 70/小時(水),重量45KG, 尺寸 (長寬高)((450X250X350)MM,PP使用雙機械密封,可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn),并通冷媒對密封部分進行冷卻。通過變換模塊,可以實現(xiàn)多功能多用途。機械密封和機械設(shè)計符合3A健康標準,是中試和小批量生產(chǎn)的***佳選擇。



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    粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
    IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果
     
    為了達到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會不會偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點,也應(yīng)該是廣大客戶在選型時應(yīng)該重視的幾個方面。
     
    KN管線式高剪切膠體磨與臥式膠體磨比較:
    轉(zhuǎn)速和剪切力:
    國內(nèi)膠體磨,3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
    線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
    作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
    IKN高剪切膠體磨,9000/14000RPM通過皮帶加速
    線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
    作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
    這是研磨粉碎的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
    設(shè)備設(shè)計構(gòu)造:
    國內(nèi)膠體磨,臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運行時間長,容易造成軸的偏心,運轉(zhuǎn)不正常,需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
    IKN高剪切膠體磨,立式分體結(jié)構(gòu),運行時間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
    密封:
    國內(nèi)膠體磨,填料密封或骨架密封,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
    IKN膠體磨,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至***低,可24小時不停運轉(zhuǎn),特殊德國PDFE軸封,可以運行10000小時,可選擇德國高品質(zhì)機械密封,在一般的情況下,我們的機械密封可以***大承受16bar 壓力,根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口***大壓力可以達到12-13 bar .
    產(chǎn)品效果:
    國內(nèi)膠體磨,粒徑細度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
    IKN高剪切膠體磨,可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化粉碎



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