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納米研磨機,納米研磨設備

產(chǎn)品型號：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥198567.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-10-21

詳細信息

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納米研磨機，,納米研磨設備,超高速研磨機,納米材料研磨設備,IKN研磨機 CMD2000納米研磨機是

14000轉(zhuǎn)研磨機是是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

納米研磨機的

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨分散機應用領(lǐng)域：

化學工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,,炭黑，石墨烯，碳納米管，富勒烯，凝膠，溶膠，壓裂液催化劑纖維等。
食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，蛋黃醬，沙拉醬，奶酪食用菌絲，大豆豆粕等

日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，膠囊，微球，口服混懸液，動物組織破壁，纖維素等。
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要。

新能源材料：石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級電容、石墨烯潤滑油、碳納米管、碳纖維、鋰電池漿料、電池隔膜潤滑油等等

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

納米研磨機的眼膜效果

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率（越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4 物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

研磨時間對粉體產(chǎn)品細度的影響一般而言，研磨時間越長，則研磨效果越好，
但顆粒的細化達到一定程度則很難再進一步細化。因為隨著顆粒粒度的減小，比表面積迅速增大，顆粒表面激活點增多，表面自由能增大，體系處于極不穩(wěn)定狀態(tài)，微細顆粒間則彼此團聚形成“假顆粒”，以降低比表面積；若再延長研磨時間，輸入體系的能量則用于粉碎“假顆粒”，“假顆粒”粉碎后又很快重新團聚，整個體系處于團聚—磨細的動態(tài)平衡中，從而大大降低了研磨能力和效率。

分散劑對粉體產(chǎn)品細度的影響
在超細研磨過程中，一方面物料顆粒接受施能被粉碎，另一方面被磨細顆粒因表面能增大又極易
團聚在一起，形成“假顆粒”，“假顆粒”被粉碎后又團聚。因此在研磨進行到一定程度時，過程已處于團聚—磨細的動態(tài)平衡中，研磨效率大大降低。分散劑是濕法超細研磨中的重要調(diào)節(jié)因素。對于超細磨，添加一定量的分散劑以后，因與物料間的吸附作用，改變了顆粒間的相互依從狀態(tài)，使細顆粒物料保持分散狀態(tài)，分散劑并能吸附在物料表面降低表面能，改善漿料的流變性，使研磨效率提高。