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    硫酸頭孢喹肟研磨分散機

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥198567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息
    硫酸頭孢喹肟研磨分散機,頭孢類混懸液分散機,德國硫酸頭孢喹肟研磨分散機,混懸液高速分散機

    酸頭孢喹肟研磨機,硫酸頭孢喹肟均質(zhì)機是當固體顆粒分散到一種液體中時,形成一種懸浮液。當一種液體分散到另一種液體中時,形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個液相間的界面處,表面張力開始發(fā)生作用。新表面的產(chǎn)生需要能量。在沒有外部影響的情況下,每個液相體系均企圖以較少的能量達到乳濁液狀態(tài)。

     硫酸頭孢喹肟的工藝要求       

    *終產(chǎn)品: 混懸液

    用途: 混懸液

    工藝要求: 與藥物接觸部分為

    原材料: 硫酸頭孢喹肟

    液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇

    固體(%): 硫酸頭孢喹肟

    密度(kg/m3): 1.05 溫度(℃): 35

     將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)研磨分散機進行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。

    硫酸頭孢喹肟研磨分散機的效果 

    ρs -ρ為分散相與連續(xù)相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續(xù)相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續(xù)相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩(wěn)定,就必須降低沉降速度,對于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續(xù)相液體分子大小時,顆粒才能穩(wěn)定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。

    通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩(wěn)定性,分散相顆粒的粒徑應盡量細小。但應該指出,根據(jù)前人所做的大量研究發(fā)現(xiàn),隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩兀怯捎陬w粒之間的間距減小,顆粒之間的結(jié)合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當顆粒直徑小于某一細小尺寸時,此時,顆粒的布朗運動效應就不能忽略了,所以由于細小顆粒的布朗運動,而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩(wěn)定劑,這些情況都會導致顆粒團聚,對體系的穩(wěn)定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點,減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個較窄的尺寸范圍,并達到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩(wěn)定。

     

    影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

     

     

    1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

    2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

    3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

    4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

    5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

     

    線速度的計算

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
    g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    – 轉(zhuǎn)子的線速率

    – 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

     

    速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

     

        高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。

    磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。

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