石墨烯NMP漿料研磨分散機，石墨烯NMP漿料分散機，石墨烯NMP溶液混合分散機，石墨烯NMP漿料混合分散機

（上海依肯機械設(shè)備有限公司  公司有樣機可供實驗）

1.石墨烯（Graphene）是一種由碳原子以sp2雜化軌道組成六角型呈蜂巢晶格的平面薄膜，只有一個碳原子厚度的二維材料。石墨烯目前是世上*薄卻也是*堅硬的納米材料，幾乎完全透明，只吸收2.3%的光；導(dǎo)熱系數(shù)高達5300W/m，高于碳納米管和金剛石，常溫下其電子遷移率超過15000cm2/Vs，又比納米碳管或硅晶體高，而電阻率只約10-8Ω/m，比銅或銀更低，為世上電阻率*小的材料。石墨烯做電極，可用于液晶顯示器，太陽能電池，ipad和智能手機使用的觸摸屏，以及有機發(fā)光二極管（OLED）顯示器，這種顯示器用于電視和計算機。由此可見石墨烯的重要性。但是由于市場上大多數(shù)都是雙層或者多層的石墨烯，根本沒有辦法發(fā)揮他的作用，所以把石墨烯加入NMP溶液中，進行上海依肯的設(shè)備進行機械剝離分散，就可以讓其發(fā)揮它的優(yōu)勢。

2.如何得到單層不抱團的石墨烯NMP溶液幾乎成了所有研究石墨烯廠家的難題：

多層的石墨烯根本不能發(fā)揮它的效能，由于石墨烯是一種超細超薄的材料，在不破壞其單層結(jié)構(gòu)的情況下，成了難點。上海依肯機械設(shè)備有限公司成功地解決了這個問題。上海依肯機械設(shè)備CMD2000系列的膠體磨（錐體磨）+分散頭的組合，可以先將石墨混合物（配入NMP溶劑和分散劑）用膠體磨（錐體磨）研磨細化，然后再經(jīng)過分散頭，進行分散。這樣既可以細化又可以避免團聚的現(xiàn)象，從而得到單層的石墨烯溶液應(yīng)用于生活中。

3.石墨烯NMP溶液分散機，石墨烯NMP漿料分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離，間隙距離越小磨的越細。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。上海依肯機械設(shè)備有限公司定轉(zhuǎn)子間隙0.2-0.3mm，一般國內(nèi)的間隙在0.5-1mm，轉(zhuǎn)速可達14000轉(zhuǎn)，國內(nèi)轉(zhuǎn)速一般是3000轉(zhuǎn)，是國內(nèi)設(shè)備的3-4倍，依肯的設(shè)備可以達到國內(nèi)設(shè)備達不到的效果，我們的設(shè)備是一款精磨型設(shè)備，特別適合石墨烯這種研磨分散要求高的物料。

4.上海依肯機械設(shè)備有限公司的研磨分散機，可適用于石墨烯加任何一種液體，并且達到完全想象不到的效果，譬如石墨烯潤滑油膠體磨，石墨烯涂料研磨分散機，石墨烯漿料膠體磨，石墨烯涂料研磨分散機。目前依肯已經(jīng)和常州、寧波，成都等大型的石墨烯研究廠家已有深度的合作，并且效果十分可觀。

分散是實現(xiàn)石墨烯材料產(chǎn)業(yè)化的重要前提之一，而目前關(guān)于分散石墨烯粉體的研究報道極少，這一方面是由于目前制備手段很難獲得一定量的石墨烯；另一方面，石墨烯即使得到生產(chǎn)，估計也不會以純粹的粉體狀存在，因為沒有經(jīng)過穩(wěn)定化處理的石墨烯有可能重新團聚成石墨（片）。所以，目前的研究重點是物理或在弱的化學(xué)條件下剝離石墨并形成穩(wěn)定的石墨烯分散系統(tǒng)。
物理分散法一般分散能力有限，化學(xué)分散法雖然分散能力強，但是一般會導(dǎo)致共軛片層結(jié)構(gòu)出現(xiàn)缺陷，相比較而言，非共價鍵修飾的官能團是一個較好的方式，基于范德華力和π-π相互作用，可以在石墨烯表面接枝比較好的高分子，這樣可以避免產(chǎn)生缺陷及破壞片層表面的共軛結(jié)構(gòu)。

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