原料藥濕法粉碎機(jī)，又被成為原料藥膠磨機(jī)，或者原料藥研磨分散機(jī)，特別適合于需要研磨、分散、均質(zhì)一步到位的物料。IKN濕法粉碎機(jī)是將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭間隙可調(diào)。

原料藥濕法粉碎機(jī)，為醫(yī)藥衛(wèi)生級(jí)濕法研磨設(shè)備，標(biāo)準(zhǔn)配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼。     特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。    李佩佩

原料藥濕法粉碎機(jī)是由膠磨機(jī),分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同級(jí)的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。分散頭的轉(zhuǎn)子定子結(jié)構(gòu)符合流體力學(xué)的線性結(jié)構(gòu)。在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)流體是切線方向甩開(kāi)。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列設(shè)備選型表

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).