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頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨，頭孢地嗪鈉，混懸液膠體磨膠體磨

產(chǎn)品型號：

CMD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥118900.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-10-21

詳細(xì)信息

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頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨，頭孢地嗪鈉，混懸液膠體磨膠體磨是使物料被有效地乳化、分散和粉碎上海依肯機(jī)械設(shè)備
頭孢地嗪鈉為半合成第三代頭孢霉素，對革蘭陽性菌、陰性菌均有抗菌活性，對β內(nèi)酰胺酶穩(wěn)定，對頭孢菌素酶和青霉素酶極穩(wěn)定。臨床主要用于鏈球菌屬、肺炎球菌等敏感菌所致的肺炎、支氣管炎、咽喉炎、扁桃體炎、腎盂腎炎、尿路感染、淋菌性尿道炎、膽囊炎、膽管炎、婦科感染、敗血癥及中耳炎等。
頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨的粉碎效果
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）
2 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
3  物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
4 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)
                            g 定-轉(zhuǎn)子間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
頭孢頭孢地嗪鈉混懸

磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

頭孢混懸液膠體磨的特點(diǎn)
·        結(jié)合優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量
·        定制不同的研磨刀頭，實(shí)現(xiàn)多種研磨剪切速率
·        為減少顆粒大小的控制，可無限調(diào)整定子/轉(zhuǎn)子之間的間隙設(shè)置
·        IKN膠體磨CM與生產(chǎn)系統(tǒng)的密實(shí)度作為機(jī)器聯(lián)機(jī)設(shè)計(jì)的結(jié)果。
·        適合于粘度高達(dá)50,000 mPas的各種粘度范圍的物料
·        能在高達(dá)16 bar的壓力下操作
·        容易擴(kuò)大規(guī)模生產(chǎn)，從實(shí)驗(yàn)室機(jī)器CM開發(fā)到生產(chǎn)機(jī)器CM
·        所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼
·        具有耐磨材料的高性能機(jī)械密封密封
·        高質(zhì)量的表面處理，便于清洗
·        可根據(jù)要求提供其他材料和表面處理
·        機(jī)器可自動排水，具有CIP和SIP功能
·        噪音低
·        根據(jù)符合EHEDG（歐洲衛(wèi)生工程設(shè)計(jì)集團(tuán)）準(zhǔn)則制造
·        符合3A衛(wèi)生和認(rèn)證
頭孢混懸液膠體磨上海依肯機(jī)械設(shè)備