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皮下注射液細球膠體磨，肌肉注射劑膠體磨

產(chǎn)品型號：

CMD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥168000.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-10-21

詳細信息

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注射劑：藥物制成的供注入體內(nèi)的無菌溶液（包括乳濁液和混懸液）以及供臨用前配成溶液或混懸液的無菌粉末或濃溶液。
注射劑的要求，無菌：注射劑成品中不得含有任何活的微生物；無熱原：對于注射量大的、供靜脈注射和脊椎腔注射的注射劑必須符合無熱原的質(zhì)量指標；澄明度：按照澄明度檢查的規(guī)定，應符合規(guī)定要求；安全性：注射劑安全試驗包括刺激性試驗、溶血試驗、過敏試驗、急性毒性試驗、長期毒性試驗等；滲透壓：注射劑要求有一定的滲透壓，供靜脈注射和脊椎腔注射的注射劑應當與血漿滲透壓相等或接近，低滲溶液會造成紅細胞脹破、溶血；高滲溶液會使紅細胞萎縮；穩(wěn)定性：注射劑要求具有必要的化學穩(wěn)定性、物理穩(wěn)定性和生物穩(wěn)定性，有明確的有效期。

注射劑的中藥預處理，挑選——洗滌——切制——干燥——粉碎——滅菌；為了保持注射劑的穩(wěn)定性，中藥粉碎要求的細度非常高，粒徑范圍窄。上海依肯高剪切研磨分散機CMD2000系列由膠體磨和分散機組成的高科技產(chǎn)品，兼具研磨和分散兩大功能，為國內(nèi)首創(chuàng)，轉速高達9000rpm，定轉子間隙可進行無級調(diào)節(jié)，通過物料間強烈的剪切、湍流、碰撞和撕裂作用得到0.01-1微米的超細顆粒，分布范圍很窄，非常適合藥品的研磨粉碎和均質(zhì)分散，同時也適用于微球乳化。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

膠體磨	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	200	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	5000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	8000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。