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    依肯IKN碳管石墨烯薄膜研磨分散機(jī)18018542795

    產(chǎn)品型號(hào): 18018542795
    品  牌: 依肯IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥178000.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息

    碳管石墨烯薄膜研磨分散機(jī),石墨烯薄膜研磨分散機(jī),碳管薄膜研磨分散機(jī),碳管石墨烯分散液研磨分散機(jī),氧化石墨烯研磨分散機(jī) 是透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

     

     

    透明導(dǎo)電薄膜(TCFs,transparent conducting films)是指在可見(jiàn)光區(qū)(λ=380—780nm)有較高的透光率(Tavg大于80%),并且具有優(yōu)良的導(dǎo)電性,電阻率可以達(dá)到10^-5Ω·m 以下的薄膜材料。

       目前研究和應(yīng)用廣泛的是金屬氧化物透明導(dǎo)電薄膜(TCO) ,主要有 Sn2O、In2O3和ZnO基三大體系,其中以In2O3∶Sn (ITO)、Sn2O∶F(FTO)和ZnO∶Al(ZAO)具代表性,這些薄膜具有有高載流子濃度(10^18~10^21cm^-3)和低電阻率(10^-4~10^-3Ω·cm),且可見(jiàn)光透射率達(dá)80%~90% ,已被廣泛應(yīng)用于平面顯示、建筑和太陽(yáng)光伏能源系統(tǒng)中。

       銦錫氧化物(ITO)由于其高電導(dǎo)率和高透光率,已經(jīng)成為透明導(dǎo)電薄膜的主要材料。然而ITO在使用過(guò)程中也存在一些缺點(diǎn),包括:(1)銦的價(jià) 格持續(xù)上漲,使得ITO成為日益昂貴的材料,(2)ITO脆的性質(zhì)使其不能滿足一些新應(yīng)用(例如可彎曲的LCD、有機(jī)太陽(yáng)能電池)的性能要求,(3)ITO的制備方法(例如噴鍍、蒸發(fā)、脈沖激光沉積、電鍍)費(fèi)用高昂。

    作為透明導(dǎo)電薄膜的制備材料,受人關(guān)注的還是其透光率和導(dǎo)電性問(wèn)題。Peumans 等預(yù)言石墨烯的電阻將低至 62.4/n Ω/sq,而其透光率將達(dá)到 100-2.3n(%)(其中n代表層數(shù))。因此石墨烯不論從化學(xué)穩(wěn)定性、柔韌性、導(dǎo)電性、透明性、導(dǎo)熱性還是從原料成本方面考慮都被認(rèn)為是有前途的透明導(dǎo)電薄膜的材料之一。 

     

     

    1整模板依次用丙酮、XX和水洗滌除去表面油脂; _ 

    2)將氧化石墨烯、碳納米管溶于三級(jí)水制得混合液,超聲攪拌,機(jī)械剝離,得到粘稠的 氧化石墨烯與碳納米管的均勻分散液;所述碳納米管的質(zhì)量占氧化石墨烯和碳納米 量的0〜20%,取值不為0; " 

    3) 將制得的氧化石墨烯與碳納米管均勻的分散液,置于平整模板上進(jìn)行刮涂,在 120°C條件下烘干,制得碳管—石墨烯相互穿插薄膜; 

    4) 將步驟3)所獲得的碳管-石墨烯相互穿插薄膜在犯溶液中浸泡,水洗滌浸泡至 烘干,獲得基于碳管-石墨烯相互穿插薄膜。 ’ 

    氧化石墨烯與碳納米管均勻的分散液如何制備呢   超聲攪拌,機(jī)械剝離,得到粘稠的 氧化石墨烯與碳納米管的均勻分散液;

     

     

     

     

     

     

    速研磨式分散機(jī)是由chao gao速膠體磨,chao gao速分散機(jī)組合而成的高XX產(chǎn)品。

    級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第#級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,##要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征#能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出X終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMXD2000系列的線速度很高,剪切間隙fei #小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

     

    chao高速研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類(lèi)型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMXD 2000/4

    300

    21,000

    66

    5.5

    DN25/DN15

    CMXD 2000/5

    1500

    15,750

    66

    18

    DN40/DN32

    CMXD 2000/10

    4000

    10,500

    66

    37

    DN80/DN65

    CMXD 2000/20

    10000

    7,300

    66

    75

    DN80/DN65

    CMXD 2000/30

    20000

    4,900

    66

    132

    DN150/DN125

               

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

     

     

     

     

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