納米硅粉及光伏材料研磨分散設(shè)備，納米硅粉研磨分散機(jī)，光伏材料納米硅粉研磨分散設(shè)備，硅粉超細(xì)研磨分散設(shè)備，粒徑均勻納米硅粉分散設(shè)備，德國研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，高剪切分散研磨分散機(jī)
段工

納米硅粉的用途廣泛，比如用納米硅粉做成納米硅線用在充電鋰電池負(fù)極材料里，或者在納米硅粉表面包覆石墨用做充電鋰電池負(fù)極材料，可提高鋰電池的電容量和充放電循環(huán)次數(shù)；納米硅粉用在耐高溫涂層和耐火材料里。納米硅粉與金剛石高壓下混合形成碳化硅一金剛石復(fù)合材料，用做切削刀具等。隨著硅粉向納米尺度轉(zhuǎn)變時(shí)，由于尺寸效應(yīng)，將賦予硅材料新的特性。納米硅粉，在陶瓷材料、復(fù)合材料、催化材料、光電池以及生物材料等領(lǐng)域都具有巨大的潛在應(yīng)用前景。

目前生產(chǎn)納米硅粉的方法主要有：

·硅烷在熱、微波、激光、等離子體等外界能量的作用下，在高氫稀釋的條件下分解為硅和氫，在氣相環(huán)境下快速冷凝，從而制備出納米硅粉。硅烷是有毒的爆炸性氣體，安全保護(hù)是硅烷法的一個(gè)重要問題，至今尚未徹底解決，對(duì)環(huán)境和人身安全造成危害。

特推薦使用依肯機(jī)械研磨分散機(jī)經(jīng)過該設(shè)備處理的硅粉純度高、粒徑分布均勻，分散性好，活性高等特點(diǎn)。不僅可以漿納米硅粉團(tuán)聚解聚還可以在原來的基礎(chǔ)上細(xì)化粒徑。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。