研磨用鏡面金漿高速大小型分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎�？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

鏡面金漿的制備方法，包括步驟1、在一定厚度的PET薄膜上涂布一層干膜厚度不低于1um的離型涂料；步驟2、通過(guò)PVD法或者離子濺射法在薄膜涂層上鍍上一層純度≥99％的銅，形成鍍銅膜，膜厚在之間；步驟3、將鍍銅膜浸入一定質(zhì)量的溶劑中，離型涂層被溶解后，鍍銅層則從薄膜上脫落下來(lái)，分散在溶劑中；步驟4、將銅膜懸浮液進(jìn)行濃縮，得到固含量不低于50％的銅膏。本發(fā)明直接制得金色金屬顏料層，可以*大限度的兼顧色彩和鋁銀漿的光亮度(鏡面效果)，使客戶(hù)使用方便，省去調(diào)色環(huán)節(jié)，也可以降低部分成本，用該工藝制備的鏡面金漿具有明艷的金色效果。

高速研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備，是一項(xiàng)新的技術(shù)革新。研磨分散機(jī)是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機(jī)一體化的設(shè)備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散，避免了物料的二次團(tuán)聚。

1、超強(qiáng)的剪切力，CMD2000系列研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，線速度為44m/s，是普通設(shè)備的4-5倍。

2、高精密度的定轉(zhuǎn)子，超細(xì)研磨分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子分為兩級(jí)，一級(jí)為膠體磨磨頭，采用三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)，磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學(xué)的設(shè)計(jì)。第二級(jí)是分散頭，IKN分散頭有六種不同的規(guī)格，從粗到細(xì)，越來(lái)越密，分散效果佳。

3、機(jī)械密封，超細(xì)的效果取決于高的轉(zhuǎn)速，而轉(zhuǎn)速越高機(jī)械密封的發(fā)熱量就會(huì)越大，設(shè)備的機(jī)械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速，國(guó)內(nèi)大多數(shù)廠家的機(jī)械密封是無(wú)法做到的，而IKN研磨分散機(jī)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并配有機(jī)封冷卻系統(tǒng)，可以承受超高的轉(zhuǎn)速，穩(wěn)定性高。

高速研磨分散機(jī)CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇）

研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力

更可靠 采用整體式機(jī)械密封，*大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國(guó)際先進(jìn)的受控切割技術(shù)，將纖維類(lèi)物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿(mǎn)足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%