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德國(guó)IKN均勻分散不沉降無(wú)機(jī)材料納米氧化鋁催化劑水性漿料研磨機(jī)CMSD2000
詳細(xì)信息均勻分散不沉降無(wú)機(jī)材料納米氧化鋁催化劑水性漿料研磨機(jī)具有設(shè)計(jì)緊湊、實(shí)用新型,外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡(jiǎn)單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點(diǎn)、是處理精細(xì)物料*理想的加工設(shè)備。
氧化鋁的核心應(yīng)用
氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無(wú)機(jī)膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。
氧化鋁的分散問(wèn)題
近年來(lái),已將超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大,表面活性高,單個(gè)超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),顆粒之間因?yàn)橄嗷ノ鴪F(tuán)聚,易于失去超細(xì)粉體特有的性能,因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散,是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。
在水溶液中,氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚,出現(xiàn)絮凝,分層等現(xiàn)象,破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點(diǎn)。影響穩(wěn)定性的因素有很多,如:分散劑種類(lèi)及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。
當(dāng)物料工藝確定后,影響分散穩(wěn)定性的唯一因素就是漿料中粒子的半徑,半徑越小,沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備,來(lái)獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦CMSD2000系列研磨分散機(jī),獨(dú)特的結(jié)構(gòu),膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,14000rpm超高轉(zhuǎn)速,效果好、效率高。
氧化鋁水性漿料分散設(shè)備推薦
結(jié)合多家化工企業(yè)案例,我司推薦CMSD2000系列研磨式超高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁的研磨和分散,一般可獲得超細(xì)的物料粒徑,一般為1μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態(tài)。
從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào)
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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