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德國(guó)IKN高性能鈉離子電池負(fù)極材料漿料大小型研磨分散機(jī)制備方法CMSD2000
詳細(xì)信息品牌:德國(guó)IKN 類型:剪切分散機(jī) 物料類型:固-液 適用物料:化學(xué)品 應(yīng)用領(lǐng)域:化工 型號(hào):CMSD2000 速度類別:五級(jí)變速 調(diào)速范圍:0-14400 r/min 分散輪直徑:115 mm 升降行程:100 mm 電機(jī)功率:30 Kw 變速方式:變頻變速 罐容量:100 L 外形尺寸:1-1-1 mm 整機(jī)重量:450 kg 高性能鈉離子電池負(fù)極材料漿料大小型研磨分散機(jī)制備方法,碳基材料由于資源豐富、價(jià)格低廉同時(shí)又環(huán)境友好被視為*具發(fā)展?jié)摿Φ拟c離子電池負(fù)極材料,硬碳、炭黑、碳纖維、石墨烯等相繼見(jiàn)諸報(bào)端。
不幸的是,大多數(shù)碳材料在不同程度上存在首次庫(kù)倫效率低和循環(huán)性能差的問(wèn)題,而雜環(huán)原子(例如B,N,S,P)的摻雜可改善上述問(wèn)題,因?yàn)樗芴岣邔?dǎo)電性,同時(shí)又能引入結(jié)合鈉離子的活性位點(diǎn),氮摻雜的碳基材料被廣泛研究并在作為鈉電負(fù)極時(shí)展現(xiàn)出重大進(jìn)步。
研磨分散機(jī)工作原理:研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的gao速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
與氮相比,硫擁有更大的原子尺寸和更小的電負(fù)性,摻雜時(shí)更有利于增大層間距、引入活性位點(diǎn)、增強(qiáng)碳基材料的電學(xué)性能。從雙元素?fù)诫s的協(xié)同效應(yīng)的角度來(lái)看,N/S共摻雜是實(shí)現(xiàn)高導(dǎo)電性和擴(kuò)大層間距的有效方式。
但是,通常用含硫的前驅(qū)體作為硫源,僅能通過(guò)擴(kuò)大層間距來(lái)提高鈉的嵌入,不能提供額外的的法拉第反應(yīng)來(lái)進(jìn)一步提高儲(chǔ)鈉容量。圖1硫摻雜的示意圖
研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第er級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,te別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征dou能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出#終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
為解決此類問(wèn)題,南開(kāi)大學(xué)周震教授團(tuán)隊(duì)采用了一種完全不同的方式進(jìn)行硫摻雜——在H2S氣氛下熱處理富氮碳納米片。
該方式利用氣-固反應(yīng)直接將吡咯N取代為S,通過(guò)形成-C-S-C-鍵的形成來(lái)提高S的利用率(如圖1所示),增大層間距的同時(shí)(圖2)提供更多的活性位點(diǎn)來(lái)滿足高度可逆的儲(chǔ)鈉反應(yīng),因此該氮硫共摻雜的多孔碳納米片(S-N/C)用作鈉電負(fù)極時(shí)展現(xiàn)出高容量和優(yōu)異的倍率性能。圖2氮硫摻雜對(duì)碳材料層間距的影響
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)jun級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐mo處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器研磨分散機(jī)
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMSD 2000/4
300
14,000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10,500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7,200
41
30
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4,900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2,850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1,100
41
160
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,bi須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)yi提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
5 本系列機(jī)型具有短程送料能力,無(wú)自吸功能,須選用高位進(jìn)料;物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí),須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。
從S-N/C的CV中可以看出,與N/C相比,S-N/C在1.05V有一個(gè)還原峰,對(duì)應(yīng)Na+與連結(jié)在碳基底上的S之間的反應(yīng),在1.8V有一個(gè)氧化峰,表明S-N/C的部分容量是由Na+與S之間的法拉第反應(yīng)貢獻(xiàn)。在50mA/g的電流密度下,穩(wěn)定容量可保持在350mAh/g左右,即使電流密度提高到10A/g,容量仍可維持在110mAh/g左右,展現(xiàn)出優(yōu)異的倍率性能。圖3S-N/C電化學(xué)性能
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