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    混懸液高速剪切研磨分散機

    產品型號: CMD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108000.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-23
    詳細信息

    混懸液分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外 部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有 效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
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       研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。 

    研磨分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

       *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

       第 二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

       CMD2000 系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級 鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以 滿足不同行業(yè)的多種要求

    7890/13789RPM 可以通過變頻調速通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細度更小)。

    IKN膠體磨結構:

    三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。雖然都是三級結構,但是他們的設計不同理念不同,形狀及齒列的結構。

    管線式乳化頭   

    粗 精度的工作頭可以滿足中剪切的混合、均質工藝過程。它是由粗精度定子與泵葉式轉子(2P)相組成:一個粗精度的定子在使用時通常是和一個特定的轉子配套 的,轉子可以提供很高的產量,這就是所謂的“P”。和其他形式的工作頭相比,這種定轉子組合成的分散頭將產量提高了4倍,它所產生的剪切力在中等水平,并 且能產生泵的那種抽吸效應。這種工作頭可以在泵的位置替代泵使用,或者可以輔助泵來增加流量,同時也可以用于輔助多級機器輸送高粘度流體。        
    2G轉子(粗精度)                           2G 定子(粗精度)
    粗精度(2G)分散頭:主要用于擠壓、切碎、消溶和粗精度破碎。尤其適合于粗顆粒懸浮之前的預粉碎以及樹脂的切碎和擠壓操作。     
    4M轉子(中精度)                     定子(中精度) 
    中等精度(4M)乳化頭:主要用于擠壓、顏料分散、加快溶解和良好的破碎。這種乳化頭在乳化和懸浮生產中應用的比較普遍,特別是顏料工藝領域,一般用在低粘度范圍的生產中較多。      
    6F轉子(細精度)                     定子(高精度)
    高精度(6F)均質頭:主要用于擠壓、催化、加快溶解以及要求比較高精度的粉碎。特別適合于微乳化和懸浮,經常應用在洗液、面霜等領域,主要**對低粘度范圍的物料,也可以和一個喂料泵相連。

    8SF 轉子(特高精度)                     8SF 定子(特高精度)  

    特高精度(8SF)均質頭:主要用于擠壓、催化、加快溶解以及要求特高精度的粉碎。特別適合于微乳化和精細懸浮,可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經分布更窄。特別應用于:疫苗,**破碎,膠體溶液,金屬氧化物懸浮液,墨水,印刷涂料,色素混合等等。主要**對低粘度范圍的物料,也可以和一個喂料泵相連。

    混懸液分散機,混懸液研磨分散機,布洛芬混懸液分散散機,鋁鎂加混懸液分散機,布地奈德混懸液分散機  混懸液分散機 德國混懸液分散機,進口混懸液分散機 

    混懸液分散機混懸液型**劑一般系指不溶性**物顆粒分散在液體分散媒內所形成的不均勻分散系的液體**劑。對混懸劑的要求是:混懸的微粒應細微均勻、下沉緩慢、其速度不影響劑量的正確量;下沉后的微粒不結塊,稍加振搖即能均勻分散;在長期貯存中粒子大小保持不變;不太粘稠,易傾倒;外形美觀,味道可口并具有一定的防腐能力;外用混懸劑應易于涂布,不易流散,能快速干燥,干后能形成不易擦掉的保護膜;鞈覄┑奈⒘R话阍1um以上,混懸劑在**上應用較廣,在口服、外用、**、滴眼、氣霧以及長效等劑型中都有應用。

     

    混懸液分散機 

    液體**劑中的**物可以是固體、液體或氣體,在一定條件下分別以分子或離子、膠粒、顆粒、液滴狀態(tài)分散于液體分散媒(溶劑,下同)中組成分散體系。如分散相以分子或離子狀態(tài)分散于液體分散媒中者稱為溶液(真溶液),其中溶質分子量小的稱為低分子溶液;溶質分子量大的(如蛋白質類)則稱為高分子溶液。膠體溶液除了高分子溶液以外,還包括溶膠,它由多分子聚集體作為分散相的質點,分散在液體分散媒中。如果以固體顆;蛞旱畏稚⒂诜稚⒚街,顆粒或液滴與分散媒之間有相界面,前者稱為混懸液,后者稱為乳濁液。

     混懸液分散機 

     

    混懸液分散機   研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    1000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    3000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    8000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    20000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    60000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。

     

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以

     混懸液分散機,上;鞈乙分散機

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