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    芳綸纖維高剪切研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺(tái)
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-24
    詳細(xì)信息
    芳綸纖維      助燃纖維   高強(qiáng)纖維    高剪切分散機(jī)
    芳綸漿粕是對(duì)芳綸纖維進(jìn)行表面
    原纖化處理之后便得到的,其獨(dú)特的表面結(jié)構(gòu)*地提高了混合物的抓附力,因此非常適合作為一種增強(qiáng)纖維應(yīng)用于摩擦及密封產(chǎn)品中。
    芳綸漿粕纖維因兼有優(yōu)異的濕加工性能和增強(qiáng)性能而被廣泛用于工業(yè)造紙。漿粕在水中很易分散抄紙,且漿粕原纖的高長徑比提供了芳綸漿粕強(qiáng)度,除了能夠改進(jìn)彈性基體的抗拉強(qiáng)度、模量以及抗蠕變等性能外,由于其熱膨脹系數(shù)小、質(zhì)輕、電性能優(yōu)異而適合做高級(jí)絕緣用紙及需尺寸穩(wěn)定性極高的印刷集成電路板,芳綸漿粕的輕量化高密度元件,可用于衛(wèi)星通信線路、高速傳遞回路等電子產(chǎn)品。

    芳綸漿粕研磨分散機(jī)是電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化均質(zhì)分散的效果。

    納米材料極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于***大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團(tuán)聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。 

    納米材料在涂料體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達(dá)到分散效果。 

    研磨分散:利用三輥機(jī)或多輥機(jī)的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn),部分研磨料進(jìn)入加料縫并受到強(qiáng)大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強(qiáng)大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮刀處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經(jīng)幾次循環(huán),可達(dá)到分散的目的。但用三輥機(jī)或多輥機(jī)進(jìn)行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產(chǎn)的需求。 

     球磨分散: 通過球磨機(jī)中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時(shí)使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動(dòng)混合作用而被均勻地分散。 

     砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細(xì)的珠或砂。砂磨機(jī)可連續(xù)進(jìn)料,納米粉體的預(yù)混合漿通過圓筒時(shí),在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機(jī)和砂磨機(jī)分散能取得較好的分散效果及物料細(xì)度,但球磨機(jī)和砂磨機(jī)同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點(diǎn)。 

     研磨分散機(jī): 高剪切分散機(jī)的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來強(qiáng)勁的動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細(xì)地分散,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù),***終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機(jī)、球磨機(jī)、砂磨機(jī)相比,研磨分散機(jī)具有效率高、能耗低等顯著優(yōu)點(diǎn),是分散工藝的首選。 

    納米材料研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

    1  線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

    ③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    ④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    1000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    3000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    8000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    20000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    60000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。

    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

    納米材料研磨分散機(jī),德國納米材料研磨分散機(jī)


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