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    氫氧化鋁阻燃劑高剪切分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺(tái)
      ¥188900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息

    氫氧化鋁阻燃劑分散機(jī),氫氧化鋁漿料分散機(jī),阻燃劑分散機(jī),氫氧化鋁研磨分散機(jī),ATH阻燃劑分散機(jī),氫氧化鋁阻燃劑漿料生產(chǎn)設(shè)備,氫氧化鋁阻燃劑生產(chǎn)設(shè)備,氫氧化鋁阻燃劑研磨分散機(jī),阻燃劑漿料生產(chǎn)設(shè)備,進(jìn)口納米研磨分散機(jī)設(shè)備,阻燃劑漿料研磨分散機(jī)上海IKN分散設(shè)備,膠體磨+分散機(jī)的獨(dú)特設(shè)計(jì),處理物料粒徑更小,分散更均勻。

    氫氧化鋁作為阻燃劑具有許多獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn),且來源豐富,價(jià)格低廉,應(yīng)用范圍廣,品種多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不對(duì)聚合物起增強(qiáng)作用、分解溫度低、不適于加工高于200℃的塑料制品的缺點(diǎn),因此研究其粒度超細(xì)化、表面改性處理技術(shù)、協(xié)同復(fù)合技術(shù)、納米技術(shù)正成為世界各國研究者的熱點(diǎn)問題。

      


    氫氧化鋁的超微細(xì)化增加了氫氧化鋁的表面積,使粒子表面蒸氣壓降低,明顯增強(qiáng)阻燃效果,同時(shí)提高材料制品的力學(xué)性能和耐熱性能。

    然而,要獲得超細(xì)的氫氧化鋁助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備,傳統(tǒng)的分散設(shè)備,一方面無法將氫氧化鋁漿料進(jìn)一步細(xì)化,另一方分散效果不佳。上海IKN結(jié)合多家阻燃劑廠家,可知,采用IKNCMSD2000系列研磨分散機(jī)對(duì)氫氧化鋁漿料進(jìn)行進(jìn)一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。
     
                

    如有疑問請(qǐng)致電IKN銷售工程師,IKN全體員工將竭誠為您服務(wù)! IKN主   聶倩文    QQ   ---               

    IKN研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,先研磨后分散機(jī),因?yàn)闅溲趸X分散到水中或者溶劑當(dāng)中,會(huì)形成二級(jí)團(tuán)聚體,軟團(tuán)聚。需要先將團(tuán)聚體打開再進(jìn)行分散。IKN研磨分散機(jī)二級(jí)工作組,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,剪切力強(qiáng),分散更徹底。


    CMSD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


    CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。



          
    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

      

    CMSD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

    ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

    ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    ④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


     

    選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 

     

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    1000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    3000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    8000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    20000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    60000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。

    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

    納米材料研磨分散機(jī),德國納米材料研磨分散機(jī)

     

    設(shè)備特點(diǎn)

    ⑴CMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比:

    高效、節(jié)能

    傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過程,CMD設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散效果顯著,能耗*降低;

    高速、高品質(zhì)

    傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。

    ⑵CMD設(shè)備與同類設(shè)備相比:

    多層多向剪切分散

    同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級(jí)多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象;

    CMD設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為徹底。

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