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    石墨烯水性漿料研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺(tái)
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息

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    石墨烯漿料分為兩種,以水為介質(zhì)分散叫水性,以NMP為介質(zhì)分散叫油性,石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同,一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料,影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多,設(shè)備的選型,分散劑的使用,固含量的把握
    石墨烯主要制備方法:
    制備石墨烯常見(jiàn)的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法和化學(xué)氣相沉積法(CVD)。


    1.
    機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng),得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu),但是得到的片層小,生產(chǎn)效率低。

    2.氧化還原法是通過(guò)將石墨氧化,增大石墨層之間的間距,再通過(guò)物理方法將其分離,***后通過(guò)化學(xué)法還原,得到石墨烯的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,產(chǎn)量高,目前國(guó)內(nèi)使用氧化,還原法制作石墨烯漿料的,如:寧波墨
    稀、東莞鴻納、第六元素等企業(yè)
    ,
    3.SiC外延法是通過(guò)在超高真空的高溫環(huán)境下,使硅原子升華脫離材料,剩下的C原子通過(guò)自組形式重構(gòu),從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯,但是這種方法對(duì)設(shè)備要求較高

    4.CVD也叫氣相沉積法是目前***有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點(diǎn),國(guó)內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)

     

    主要制備方法

    編輯

     

     


    關(guān)于石墨烯:

         

    單層石墨烯(Graphene):指由一層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子構(gòu)成的一種二維碳材料。

     

    雙層石墨烯(Bilayer or double-layer graphene):指由兩層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括AB堆垛,AA堆垛,AA‘堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。

     

    少層石墨烯(Few-layer):指由3-10層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括ABC堆垛,ABA堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。

     

    多層或厚層石墨烯(multi-layer graphene):指厚度在10層以上10nm以下苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括ABC堆垛,ABA堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。

     

    石墨烯(Graphenes):是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯和多層石墨烯的統(tǒng)稱。

     

     

    石墨烯水性漿料生產(chǎn)設(shè)備

    IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù),通過(guò)超高
    轉(zhuǎn)速(***高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

     

    石墨烯水性漿料生產(chǎn)設(shè)備

    在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
        

        納米研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

        第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 

    IKN石墨烯研磨設(shè)備采用XX的高速研磨分散技術(shù),通過(guò)超高
    轉(zhuǎn)速(***高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。


     

    石墨烯研磨分散機(jī)簡(jiǎn)介: 

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     石墨烯目前是世上***薄卻也是***堅(jiān)硬的納米材料 ,為世上電阻率***小的材料。因?yàn)樗碾娮杪蕵O低,電子遷移的速度極快,因此被期待可用來(lái)發(fā)展出更薄、導(dǎo)電速度更快的新一代電子元件或晶體管。由于石墨烯實(shí)質(zhì)上是一種透明、良好的導(dǎo)體,也適合用來(lái)制造透明觸控屏幕、光板、甚至是太陽(yáng)能電池。所以越來(lái)越多的廠家開(kāi)始研究和生產(chǎn)石墨烯。
      上海IKN也響應(yīng)這個(gè)新興產(chǎn)業(yè)的號(hào)召,隨之研發(fā)出石墨烯高剪切研磨分散機(jī),在生產(chǎn)石墨烯的過(guò)程中,如何將石墨更好的細(xì)化,以及細(xì)化后團(tuán)聚問(wèn)題的解決,成為的***大的難點(diǎn)。
      上海依肯CMD2000系列研磨分散機(jī),可以很好的解決這兩個(gè)問(wèn)題。CMD2000系列的膠體磨(錐體磨)+分散頭的組合,可以先將石墨混合物(配入溶劑和分散劑)研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過(guò)分散頭,進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象,為石墨烯行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。
      CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
      *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
      第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
     CMD2000系列設(shè)備選型表

     

    型號(hào)

    流量
    L/H

    轉(zhuǎn)速
    rpm

    線速度
    m/s

    功率
    kw

    入/出口連接
    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    11O

    DN200/DN150

     

     

    流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。

    (詳情請(qǐng)接洽上海依肯,    聶倩文  )
    1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
    2.處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
    3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
    4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).

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