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吸波涂料研磨分散機
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吸波材料 納米吸波材料具有極好的吸波特性,同時具備吸波頻帶寬、兼容性好、質(zhì)量 輕和厚度薄等特點。納米粒子對紅外和電磁波有強烈的吸收能力主要原因有兩 點,一方面由于納米微粒尺寸遠小于紅外及雷達波波長,因此納米粒子材料對這 種波的透過率比常規(guī)材料要強得多,這就大大減少了波的反射率,使得紅外探測 器和雷達接收到的反射信號變得很微弱,從而達到隱身的目的。另外一方面,納 米微粒材料的比表面積比常規(guī)粗粉大了3~4個數(shù)量級, 對電磁波的吸收率也比常 規(guī)材料大得多, 這就使得紅外本文受國家航天創(chuàng)新基金資助探測器及雷達得到的 反射信號強度大大降低,因此很難發(fā)現(xiàn)被探測目標,起到隱身作用。金屬、金屬 氧化物和某些非金屬材料的納米級超細粉在細化過程中, 處于表面的原子數(shù)越來 越多,增加了納米粒子的活性。在微波場的輻射下,原子和電子運動加劇,促使 磁化,使電子能轉(zhuǎn)化為熱能,從而增加了對電磁波的吸收。美國研制出的“超黑 粉”納米吸波材料,對雷達波的吸收率大于99%。目前,隱身材料雖在很多方面 都有廣闊的應(yīng)用前景, 但當前真正發(fā)揮作用的隱身材料大多使用在與航空航天或 軍事有密切關(guān)系的部件上。對于上天的材料有個重要的要求是重量輕,在這方面 納米材料是有優(yōu)勢的, 特別是由輕元素組成的納米材料在航空隱身材料中應(yīng)用十 分廣泛。
而目前吸波材料的一個主 要研究方向就是多頻率。所以如果能復合這些材料,會使吸波材料的應(yīng)用范圍大 大加寬。這些材料并不是無機相與有機相的的簡單加合,兩相界面間只存在較強 或較弱的化學鍵。它們的復合將實現(xiàn)集無機、有機、納米粒子的諸多特異性質(zhì)于 一身的新材料。特別是無機和有機的界面特性使其具有更廣闊的應(yīng)用前景。有機 材料優(yōu)異的光學性質(zhì)、高彈性和韌性,以及易加工性,可改善無機材料的脆性; 更主要的是,有機物的存在可以提供一個優(yōu)異的載體環(huán)境,提高納米極無機相的 穩(wěn)定性,從而實現(xiàn)其獨特的微觀控制,在光電磁催化等方面的特性能得到更好的 發(fā)揮,甚至可能產(chǎn)生奇異特性的新型材料。 然而單純的無機納米粒子是不易分散于有機物中的, 有機物與無機粒子之間 常有嚴重的相分離現(xiàn)象。有機無機相間應(yīng)存在較強的相互作用,才能較好的利用 有機基質(zhì)來防止無機納米微粒的團聚,使納米微粒能長期穩(wěn)定的存在。所以制備 復合吸波材料并不僅僅是無機相和有機相單獨的納米技術(shù), 更主要的是復合的納 米技術(shù)。 材料的分子設(shè)計十分重要。 近年來發(fā)展建立起來的制備方法也多種多樣, 可大致歸為四大類:納米單元與高分子直接共混;在高分子基體中原位生成納米
單元;在納米單元存在下單體分子原位聚合生成高分子;納米單元和高分子同時 生成。 各種制備納米復合材料方法的核心思想都是要對復合體系中納米單元的自 身幾何參數(shù)、空間分布參數(shù)和體積分數(shù)等進行有效的控制,尤其是要通過對制備 條件(空間限制條件、反應(yīng)動力學因素、熱力學因素等)的控制,以保證體系的某 一組成相一維尺寸至少在納米尺度范圍內(nèi)(即控制納米單元的初級結(jié)構(gòu)), 其次是 考慮控制納米單元聚集體的次級結(jié)構(gòu)。
吸波材料研磨分散機,吸波涂料研磨分散機.隱形材料研磨分散機
碳納米管分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
碳納米管分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
1、分散介質(zhì)
(1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料
(2)本PPT文件介紹的碳納米管分散技術(shù),針對中、低粘度分散介質(zhì)
2、分散劑
(1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)
(2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)
(3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS
3、分散設(shè)備
(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制
(2)研磨分散設(shè)備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管
研磨機機 和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN設(shè)備采用德國的高速研磨分散技術(shù),通過超高
轉(zhuǎn)速(***高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使納米材料烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。
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