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    納米金剛石拋光液研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): ERS000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥238567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
    納米金剛石拋光液研磨分散機(jī)  納米金剛石研磨分散機(jī)  電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及分散的效果。


    納米金剛石拋光液  納米材料是納米科技的基礎(chǔ),由于納米材料具有顆粒尺寸小、比表面積大、表面能高、表面原子所占比例大等特點(diǎn),以及其特有的四大效應(yīng):小尺寸效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)、量子隧道效應(yīng)和表面效應(yīng),從而具有傳統(tǒng)材料所不具備的奇異或反常的物理、化學(xué)特性。
    納米金剛石用作研磨和拋光
    美國、英國等國家已制備成納米拋光液,并有商品出售。常規(guī)的拋光液是將不同粒徑的顆粒放入基液制成拋光劑,廣泛用于金相拋光、高級照像鏡頭拋光、高級晶體拋光以及巖石拋光等。***細(xì)的顆粒尺寸一般在微米到亞微米級。隨著高技術(shù)的飛快發(fā)展,要求晶體的表面有更高的光潔度。這就要求拋光劑中的顆粒越來越細(xì),分布越來越窄,納米微粒為實(shí)現(xiàn)這個(gè)目標(biāo)提供了基礎(chǔ)。目前已制成的用納米金剛石配置的超精拋光液、拋光膏,可用于紅、藍(lán)寶石、首飾、高級光學(xué)鏡頭和激光鏡頭的精拋光,表面粗糙度可達(dá)Rmax<<1nm 
    含有納米金剛石的拋光系統(tǒng)具有以下一些優(yōu)越性:
    3.1超細(xì)尺寸的納米金剛石能確保表面粗糙度的***小值和拋光系統(tǒng)膠體的穩(wěn)定性。
    3.2納米金剛石的化學(xué)穩(wěn)定性,在化學(xué)上可以用于拋光系統(tǒng)的活性添加劑和拋光系統(tǒng)的還原。
    3.3降低拋光表面材料的分量,減少材料的損耗。
    3.4由于納米金剛石的離子交換和吸附活性,可減少納米金剛石表面的離子和分子產(chǎn)物的活動(dòng)性,即確保表面的純凈。
    3.5納米金剛石團(tuán)聚體的團(tuán)聚結(jié)構(gòu)有利于懸浮的拋光系統(tǒng)中聚結(jié)調(diào)節(jié)作用。
    3.6這個(gè)系統(tǒng)沒有毒。
    3.7含有納米金剛石的拋光系統(tǒng),可以提高拋光產(chǎn)品質(zhì)量和競爭能力,以確保難加工材料拋光的加工性。
    加工1m2的表面,納米金剛石的單位消耗為0.001-0.01kg。

    納米金剛石拋光液研磨分散機(jī) 

    研磨機(jī)機(jī) 和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 
        *級由具有精細(xì)度遞升的級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
        第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
    IKN石墨烯研磨設(shè)備采用的高速研磨分散技術(shù),通過超高
    轉(zhuǎn)速(***高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使?jié){料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的漿料。



    納米金剛石拋光液研磨分散機(jī) 
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