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    納米二氧化鈦研磨分散機

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息
    納米二氧化鈦研磨分散機,納米二氧化鈦分散機,二氧化鈦研磨分散機,是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實現(xiàn)令人滿意的精細分布。 

    當(dāng)固體顆粒分散到一種液體中時,形成一種懸浮液。當(dāng)一種液體分散到另一種液體中時,形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個液相間的界面處,表面張力開始發(fā)生作用。新表面的產(chǎn)生需要能量。在沒有外部影響的情況下,每個液相體系均企圖以較少的能量達到乳濁液狀態(tài)。因此,總是會有產(chǎn)生較小界面的傾向,這阻礙任何乳濁液的形成。 


    納米二氧化鈦納米TiO2具有十分寶貴的光學(xué)性質(zhì),在汽車工業(yè)及諸多領(lǐng)域都顯示出美好的發(fā)展前景。納米二氧化鈦還具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性、熱穩(wěn)定性、無毒性、超親水性、非遷移性,且完全可以與食品接觸,所以被廣泛應(yīng)用于抗紫外材料、紡織、光催化觸媒、自潔玻璃、防曬霜、涂料、油墨、食品包裝材料、造紙工業(yè)、航天工業(yè)中。 
    二氧化鈦是廣泛使用的白色素,如油漆、防曬霜和藥片包衣。通常市場上都提供不同級別的粉末產(chǎn)品,但是實際使用時還會對細度提出新的要求。同時,這類粉體碰到液體時極易團聚。IKN 系列混合分散設(shè)備為快速分散而設(shè)計,達到窄粒徑分布,并防止結(jié)塊。

    IKN工業(yè)設(shè)備用于二氧化鈦分散和研磨的優(yōu)點
    縮短工藝時間。IKN高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結(jié)塊和團聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機,將粉體直接加入液體,無需循環(huán)處理,一次性通過便可成型。
    提高品質(zhì)。IKN高剪切混合機可以打碎結(jié)塊粉體,并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度,這兩個特征由分散好壞直接決定。
    減少資金投入。IKN磨機可以***大程度縮小粒徑,達到窄粒徑分布。IKN分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多,但也可達到相類似的效果。模塊化設(shè)計的IKN 2000系列產(chǎn)品,可以幫助客戶節(jié)約資金投資。


    適合分散研磨二氧化鈦的IKN分散研磨設(shè)備

    Batch: MSM, EDC, EDE, EDS 
    間歇式EDC, EDE, EDS 
    ******************************************************************************
    Inline: HED, EDL , ER, ERS, PLD, PLC, CM, CMO 
    在線式: HED, EDL , ER, ERS, PLD, PLC, CM, CMO 

    納米二氧化鈦研磨分散機,

    的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

    研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域:

    化學(xué)工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,石墨烯,碳納米管,富勒烯,凝膠,溶膠,壓裂液 催化劑 纖維  等。 
    食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,蛋黃醬,沙拉醬,奶酪 食用菌絲,大豆蛋白粉 豆粕等

    日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
    醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,膠囊,微球,口服混懸液,動物組織破壁,纖維素 等。 
    建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
    其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要 。

    新能源材料:石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級電容、石墨烯潤滑油、  碳納米管 、碳纖維、   鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

     

    設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。


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